产品的好处:
•特殊衍射,波前误差
• 超过全光圈,均匀性好
• 坚固蚀刻结构
•优秀特色的定位精度
• 空间变化周期在两个维度上都是可能的
产品适用范围 :
•脉冲啁啾放大
•频谱组束
•精密定位及计量
• 高强度激光主要元素为球形和圆柱形
产品特点:
尺寸 | 可达 920mm × 600mm |
周期/频率 | 200nm - 20µm / 50 - 5000行/mm |
衍射,波前误差 | < l/4 PV (typ. RMS < 1 nm/inch!) |
基板材料 | 品种(Shou选熔融二氧化硅) |
镀膜原料 | 品种繁多(金属和电介质) |
PGLShou次将扫描光束干涉光刻技术商业化是最初由麻省理工学院Shou创的,用于生产米级多层材料
介质(MLD)衍射光栅,具有优异的均匀性,高激光损伤阈值,真空应力低。
PGL随后扩展了其技术包括金属反射光栅、透射光栅、二维光栅,甚至包括曲线的聚焦光栅。
我们重点在于激光器和激光系统的光栅在科学研究中的应用工业、医疗、国防和半导体市场。
PGL开发不仅在光栅作品,而且在光学涂层,反应性离子蚀刻,光学计量和精密清洗,检查和处理方面具有特殊的光学专业知识。
产品详细信息
以下表说明了最流行的PGL光栅的规格、典型值和限值,PGL的不一样能力使我们能够制造具有可变周期和相同槽方向的光栅,我们的标准直线光栅的效率,均匀性和可重复性,从而实现啁啾和聚焦光栅,今天就告诉我们你的申请吧。
光栅型 | 反射 | 反射 | 传输 | 反射或传输 |
衍射效率 | 典型. 95 – 98% | 典型 91 – 94% | 典型93 – 96% | 多级波片 |
波前误差[1] | < l/3 | < l/4 | < l/4 | < l/4 |
损伤阈值 | 高(2.5 J /平方厘米1054 nm (10ps) | 中(0.25 J /平方厘米800 nm (100 fs) | 中-高 (10秒至> 100纳米) | 中-高 (视类型而定) |
频带宽度 | 中(型30 - 40 nm) | 高(可达~ 200nm) | 中-高(10秒至> 100纳米) | 低 (型 单l) |
Max. 尺寸[2] | 920 mm × 600 mm | 920 mm × 600 mm | 470 mm × 470 mm | 920 mm × 600 mm |
[1]取决于承印物尺寸和纵横比
[2]除了受蚀刻设备限制更深的透射光栅外,主要受当前纳米控制器配置限制