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XUV/EUV宽带软X射线高分辨率光谱仪 2-100nm  

XUV/EUV宽带软X射线高分辨率光谱仪 2-100nm
具有高分辨率和效率的多功能光谱仪随着在半导体制造中使用 13.5 nm辐射的 EUV 光刻技术的发展,极紫外辐射(EUV、XUV)已成为一个重要的工业意义。这导致对高分辨率和灵敏的诊断和测量技术的需求。因此,我们构建了一个模块化的 XUV / EUV 和软 X 射线光谱仪,可用于等离子体光谱学、源诊断和计量学。它te别适用于激光等离子体源(LPS)和高次谐波源(高次谐波产生high harmonic generation,HHG)。该光谱仪设计灵活,适用于多种应用。对于广泛的几何形状,可以获得非常高的光谱分辨率。通常,分辨率仅受检测器系统像素大小的限制(XUV CCD 为 13.5 µm)。光谱仪的所有部件都是 UHV 级的。


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产品型号 1
货号 操作 名称
E80100177  XUV/EUV 宽带软X射线高分辨率光谱仪 2-100nm   [PDF] 2-100 nm 的光谱范围; 高达 λ/Δλ > 10000 的高分辨率; 多功能设置:电动载物台和自适应法兰; 不透光的设置:可以集成遮光罩; 超高真空 (UHV; < 10-9 mbar) 条件; 在线操作模式&对准&光束检测; 狭缝和无狭缝设置; 出色的信噪比 (SNR) 和最大的光收集效率;    价格 : ¥0 库存/货期:请咨询客服
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具有高分辨率和效率的多功能光谱仪

随着在半导体制造中使用 13.5 nm辐射的 EUV 光刻技术的发展,极紫外辐射(EUV、XUV)已成为一个重要的工业意义。这导致对高分辨率和灵敏的诊断和测量技术的需求。因此,我们构建了一个模块化的 XUV / EUV 和软 X 射线光谱仪,可用于等离子体光谱学、源诊断和计量学。它te别适用于激光等离子体源(LPS)和高次谐波源(高次谐波产生high harmonic generation,HHG)。

该光谱仪设计灵活,适用于多种应用。对于广泛的几何形状,可以获得非常高的光谱分辨率。通常,分辨率仅受检测器系统像素大小的限制(XUV CCD 为 13.5 µm)。光谱仪的所有部件都是 UHV 级的。


通用参数

宽带高光谱分辨率

普通光谱仪针对一个波长的特定分辨率进行了优化。相比之下,我们的专业设计可在宽带宽下实现高分辨率。例如,我们的 XUV 光谱仪在 12-41 nm 的整个带宽内达到<0.08 2="" 100="" nm="">10000 的超高分辨率。

图片4.png




操作方式及可用性

我们灵活的光谱仪提供多种操作模式,可以在操作过程中改变。

通过使用行程范围为几厘米的多轴电动工作台,用户可以轻松地对设备进行校准。此外,可以在光束路径中在线放置不同的光学器件来测量不同的光束特性。该光谱仪具有以下工作模式:(1)XUV光束检测,(2)角分辨光谱,(3)高效、光谱分辨率高的成像光谱。

下图为角分辨光谱(a、b)和成像光谱(c、d)的测量结果。



图片5.png




我们提供

优质产品

为您的应用程序完全定制

2-100 nm 的光谱范围

高达 λ/Δλ > 10000 的高分辨率

多功能设置:电动载物台和自适应法兰

不透光的设置:可以集成遮光罩

超高真空 (UHV, < 10-9 mbar) 条件

在线操作模式&对准&光束检测

狭缝和无狭缝设置

出色的信噪比 (SNR) 和Max. 的光收集效率













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