无掩模数字光刻机.pdf
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波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 对准精度 <200nm 场曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 输入文件 BMP； GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃
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| 货号 : H80050012 | |
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产品特点
采用数字微镜 (DMD) 的无掩膜扫描式光刻机，365nm波长
直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件
全自动化的对焦和套刻，易于使用
晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟
500um最小线宽
可灰度曝光（128阶）
尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间
应用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工
带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作
教学、科研
参数
MCML-110A | MCML-120A | |
Wavelength 波长 | 365nm | 365nm |
Max. frame 最大帧 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
Max exposure 最大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
Alignment accuracy 对准精度 | <200nm | <100nm |
field curvature 场曲率 | < 1 um | < 1 um |
Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
Input file 输入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
Z level accuracy Z级精度 | <1 um | <1 um |
Environment 环境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
样品
（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）
| 名称 | 型号货号 | 描述 | 价格 |
|---|
营业执照