MCML-100/MCML-120A SERIES 无掩膜数字光刻机 Digital Maskless Aligner

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产品特点采用数字微镜 (DMD) 的无膜模扫描式光刻机，365nm波长直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件全自动化的对焦和套刻，易于使用晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um套刻精度： 0.2um500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟500um最小线宽可灰度曝光（128阶）尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间

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货号	操作	名称	描述
	H80050012	无掩膜数字光刻机 MCML-110A [PDF]	波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 对准精度 <200nm 场曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 输入文件 BMP； GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃	价格 : 请联系客服库存/货期:请咨询客服	请联系客服 > 或提交询价单
	H80050011	无掩膜数字光刻机 MCML-120A [PDF]	波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 最大曝光量 2000mJ/cm2 对准精度 <100nm 场曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 输入文件 BMP； GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃	价格 : 请联系客服库存/货期:请咨询客服	请联系客服 > 或提交询价单

图片	名称	货号货期	描述	价格
	无掩膜数字光刻机 MCML-110A [PDF]	H80050012	波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 1.0um 灰度光刻 64 levels 最大曝光量 500mJ/cm2 对准精度 <200nm 场曲率 < 1 um 速度 5mm2 /sec 输入文件 BMP； GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃	联系客服或提交询价单
	无掩膜数字光刻机 MCML-120A [PDF]	H80050011	波长 365nm 最大帧 100mm x 100mm 分辨率 500nm 灰度光刻 128 levels 最大曝光量 2000mJ/cm2 对准精度 <100nm 场曲率 < 1 um 速度 2.5mm2 /sec 输入文件 BMP； GDSII Z级精度 <1 um 环境 20~25℃	联系客服或提交询价单

总览

产品特点

采用数字微镜 (DMD) 的无膜模扫描式光刻机，365nm波长

直接从数字图形生成光刻图案，免去制作掩模板的中间过程，支持直接读取GDSII和BMP文件

全自动化的对焦和套刻，易于使用

晶圆连续运动配合DMD动态曝光，无拼接问题。全幅面绝对定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圆），满幅面曝光时间5~30分钟

500um最小线宽

可灰度曝光（128阶）

尺寸小巧，可配合专用循环装置产生内部洁净空间

通用参数

应用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等试制加工

带有2.5D图案的微光学元件，衍射光器件制作

教学、科研

参数

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波长	365nm	365nm
Max. frame 最大帧	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 最大曝光量	500mJ/cm²	2000mJ/cm²
Alignment accuracy 对准精度	<200nm	<100nm
field curvature 场曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm²/sec	2.5mm²/sec
Input file 输入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z级精度	<1 um	<1 um
Environment 环境	20~25℃	20~25℃

样品

（SU8-2002, 2um胶厚，2寸硅基底）